雰囲気ボックス炉

について CVSIC箱型雰囲気炉 は、制御された雰囲気中での精密熱処理用に設計された高性能熱処理ソリューションです。最高温度は 1700°Cこの炉は 不活性ガス（N₂、Ar、CO） そして 0.08MPaまでのプレバキューム焼結、アニール、拡散プロセスのための超高純度環境を作り出す。

装備 高純度アルミナ繊維断熱材, インテリジェントPID温度制御そして 堅牢なチャンバー構造で広く採用されている。 材料研究所、半導体製造、窒化ケイ素セラミックス、複合材料、太陽光発電材料のパイロットスケール製造.

CVSIC雰囲気ボックス炉の特徴

• 広い温度範囲:1200℃/1400℃/1700℃のモデルを用意し、多様な加工ニーズに対応。
• 高精度コントロール： 工業用0.2クラス・コントローラ、PIDアルゴリズム、50ステップ・プログラマブル・プロファイル、精度±1℃。
• 真空と不活性雰囲気:0.08MPaまでのプレバキューム、N₂ / Ar / CO₂ガス注入をサポートし、酸化と汚染を防止。
• 先進のチャンバー設計:熱伝導率が低く、化学的安定性に優れたアルミナ多結晶繊維で、均一な加熱が可能。
• 強化構造:12mmの強固な角鋼リブと二重厚鋼板により、真空運転中の変形を防止。
• 優れたシーリング:四輪ドアロックとシリコン製シーリングリングにより、大気の封じ込めと操作の安全性を確保
• 柔軟な暖房オプション:抵抗線、SiC棒、MoSi₂棒からプロセス温度と材料に応じて選択します。
• 付属アクセサリー:耐火レンガ（1200℃を除く）、手袋、トング、真空ポンプ、予備品-箱から取り出してすぐに使える。

CVSIC雰囲気箱型炉アプリケーション

• 研究開発研究所:セラミックス、合金、複合材料の精密焼結と熱分析
• 半導体産業:窒化ケイ素焼結、セラミック基板加工
• 太陽光発電:シリコンウェーハの拡散処理
• 先端材料:ナノ材料と複合材料の性能試験
• 産業企業:高精度、小バッチの大気圧ベースのサーマルプロセス

カスタマイズ・サービス  

CVSICは、お客様の生産および研究開発要件とのシームレスな統合を確実にするために、包括的なカスタマイズサービスを提供しています：  

• 炉室サイズと容量：実験室から小規模生産まで多様なニーズに対応するため、1Lから64Lまでカスタマイズ可能。  
• 温度設定：1200°C、1400°C、1700°Cのカスタマイズ可能な温度範囲により、特定のプロセスに適合。
• 発熱体加熱効率を最適化するために、プロセス要件に基づいて、抵抗線、炭化ケイ素棒、またはモリブデンケイ素棒のいずれかを選択します。
• 真空および大気システム：高真空（-0.1MPa）または不活性ガスシステム（N₂、CO₂、Ar）をカスタマイズし、マルチチャンネルガス制御（フロート／マスフローメータ）をサポート。
• 制御システム：カスタマイズされたPLCタッチスクリーンインターフェース、コンピューター接続ソフトウェア、自動化とデータモニタリング機能を強化する多層キルンファニチャー。  

オプションのアクセサリー：  

• ダイレクト接続真空ポンプ：真空効率を高めます。  
• 炉室るつぼ/多層式窯道具：装入効率の向上  
• ガスシステム：2ウェイ/3ウェイのガス制御をサポートし、正確な雰囲気調整を実現。
• グローバルサポート：機器の長期安定運用のため、設置指導、操作トレーニング、保守サービスを提供。  

CVSICにご連絡いただければ、お客様の業種に合わせた箱型雰囲気炉のカスタマイズソリューションをご提供し、グローバルな卸売およびカスタムオーダーに対応いたします。  

CVSIC 雰囲気箱型炉 技術仕様  

注:炉室サイズ、出力、真空度、ガス経路システムはお客様のご要望に応じてカスタマイズ可能です。詳細な技術仕様についてはお問い合わせください。

CVSIC雰囲気ボックス炉 ギャラリー