管状炉

CVSIC管状炉の用途

当社の管状炉は、以下のような幅広い産業を支えています：

• 材料科学:セラミックスや複合材料の焼結、アニール、加工。
• 半導体製造:ウェハー製造のための拡散、酸化、化学気相成長（CVD）。
• 冶金学:制御された雰囲気下での金属および合金の熱処理および試験。
• 化学工学:触媒試験、熱分解、気相反応。
• 研究所:学術・産業研究開発のための精密熱処理。
• ナノテクノロジー:ナノ材料の合成と薄膜堆積。

よくあるご質問

すぐに購入できる管状炉の機種は？

SiCまたはMoSi₂エレメントを使用し、最高1800℃の温度に対応する管径50～300mmの完成管状炉を提供しています。詳細なカタログや在庫状況のお問い合わせはこちら。

管状炉のOEMブランドに対応していますか？

そうです。当社のOEMブランドサービスは、当社の高品質炉をお客様のブランドに合わせてカスタマイズし、製品ラインにシームレスに統合することを可能にします。

管状炉の完成品の納期はどのくらいですか？

完成したユニットは、効率的なグローバル・ロジスティクスを優先し、場所や注文サイズにもよるが、通常2～4週間以内に出荷される。

管状炉を特定の用途向けにカスタマイズできますか？

当社はカスタム設計を専門としており、お客様の特定の管径、加熱ゾーン、雰囲気制御のニーズに合わせて炉を設計します。特注品の納品には通常8～12週間かかります。

管状炉のエネルギー効率は？

当社の炉は、セラミックファイバーやアルミナセラミックなどの高度な断熱材を最適化された加熱システムと組み合わせて使用することで、エネルギー消費を最小限に抑え、コストを削減し、高性能を維持しています。

購入後のサポートは？

24時間365日のテクニカルサポート、スペアパーツ、メンテナンスサービスを提供し、長期的な信頼性を確保します。