PECVD 튜브 용광로

CVSIC 1200℃ PECVD 튜브 퍼니스는 연구 및 산업 분야의 PECVD 공정을 위해 설계되었습니다. 고순도 알루미나 파이버 챔버, 저항 와이어 가열, 최대 온도 1200℃(≤1100℃ 권장)를 갖추고 있습니다. RF 플라즈마 소스는 반응 온도를 낮추고 증착 속도를 높입니다. 3중 질량 유량 컨트롤러와 가스 혼합 시스템은 필름 성장을 위한 가스 흐름을 정밀하게 제어합니다.

이 모델은 ±1°C 정확도의 50-세그먼트 프로그래밍 제어 기능을 제공합니다. 이중 레이어 설계로 표면 온도를 50°C 이하로 유지하며 저진공 시스템으로 공정 안정성을 보장합니다. 예열 구역은 필름 품질과 균일성을 향상시킵니다. CVSIC PECVD 튜브 퍼니스는 연구 또는 소규모 생산을 위한 증착, 나노 물질 합성 및 플라즈마 공정을 지원합니다.

CVSIC PECVD 튜브 퍼니스 애플리케이션

CVSIC PECVD 튜브 퍼니스는 다음 분야와 공정에서 널리 사용됩니다:

• 박막 증착: 태양광 및 마이크로 전자 산업을 위한 금속 필름, 세라믹 필름, 복합 필름 및 반도체 박막을 준비합니다.
• 나노 소재 합성: 탄소 나노튜브, 그래핀, 실리콘 나노와이어와 같은 고성능 나노 소재를 합성합니다.
• 리튬 배터리 재료: 배터리 전극 재료의 성능과 안정성을 향상시키기 위한 PECVD 코팅 공정.
• 세라믹 및 복합재: 고온 조건에서 세라믹 및 복합 필름의 증착 및 열처리.
• 연구 애플리케이션: 대학 및 연구 기관에서 신소재 개발 및 플라즈마 공정 연구를 위해 사용합니다.
• 플라즈마 세척 및 에칭: 표면 세척 및 미세 구조 에칭을 지원하여 정밀 가공 요구 사항을 충족합니다.

CVSIC PECVD 튜브 용광로 특징

• 높은 증착 속도: RF 플라즈마(13.56MHz, 500W)로 최대 10Å/s의 증착이 가능합니다.
• 탁월한 균일성: 멀티포인트 RF 및 가스 피드가 8% 이내의 필름 균일도를 달성합니다.
• 높은 일관성: 기판 간 2% 미만의 편차를 보장하는 설계.
• 안정적인 공정: 장비는 지속적인 PECVD 작업을 보장합니다.
• 정밀한 온도 제어: 50-세그먼트 PID 제어, ±1℃ 정확도, ±5℃ 균일성.
• 고진공: 7×10-⁴ Pa의 궁극 진공, 최대 -0.1MPa.
• 안전: 과열/누수 시 자동 종료, 표면 온도 50°C 이하로 공랭식 냉각.
• 내구성 있는 구조: 조정 가능한 플랜지로 튜브 수명을 연장하고 유지보수를 줄입니다.

사용자 지정 서비스

CVSIC는 포괄적인 맞춤화를 제공하여 PECVD 공정 요구 사항의 모든 측면을 전문적으로 일치시켜 최고의 결과를 보장합니다:

• 퍼니스 튜브 사용자 지정: 튜브 직경(기본 100mm, 사용자 지정 가능) 및 가열 영역 길이(220-1650mm).
• 진공 시스템: 로터리 베인 펌프, 확산 펌프 또는 분자 펌프를 지원하여 고진공(7×10-⁴ Pa) 요구 사항을 충족합니다.
• 가스 제어: 사용자 지정 가능한 3채널 또는 다중 채널 질량 유량 컨트롤러(0-100 sccm, 0-200 sccm 또는 사용자 지정 범위).
• 제어 시스템: 7인치 HD 터치스크린, PC 연결 소프트웨어, 데이터 로깅 기능(옵션).
• 추가 기능: 확장 가능한 플라즈마 세척, 에칭 또는 기타 특수 공정 모듈.
• 글로벌 지원: 설치 안내, 운영 교육, 유지보수 서비스를 통해 장기적으로 안정적인 운영을 보장합니다.

PECVD 튜브 퍼니스 액세서리

표준 액세서리

• 차단 튜브: 4개
• 용광로 튜브: 1개
• 진공 펌프: 1대
• 진공 밀봉 플랜지: 2세트
• 진공 게이지: 1개
• 가스 공급 및 진공 펌프 시스템: 1세트
• RF 플라즈마 장비: 1 세트

옵션 액세서리

• 진공 시스템: 로터리 베인 기계식 펌프, 확산 펌프, 분자 펌프
• 플랜지 액세서리: 퀵 릴리스 플랜지, 티 플랜지
• 제어 시스템: 7인치 HD 터치스크린

CVSIC PECVD 튜브 퍼니스 사양

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