# 坩堝氣氛爐

CVSIC 坩堝氣氛爐是一款高效能熱處理系統，專為在受控氣氛條件下進行精密燒結、退火及熱處理而設計。 該設備採用 **熱壁外加熱設計**，將加熱元件與爐艙隔離，顯著延長元件使用壽命並降低污染風險。

它支援 **惰性氣體（N₂、CO₂、Ar）** 及 **氧化性氣體（空氣、氧氣）** ，真空度最高可達 **7×10⁻³ Pa**，適用於廣泛的高純度材料製程，包括 **陶瓷**、**粉末冶金**、**電子材料** 及 **稀土研究**。 該系統結合了 **PID 溫度控制**、**模組化氣氛控制** 及 **多層安全保護**，使其成為實驗室、研發中心及生產環境中的可靠選擇。

## CVSIC 氣氛坩堝爐特點

**外部熱壁加熱**：加熱元件設置於爐艙外部，避免與材料直接接觸，從而延長元件壽命並提升熱穩定性。

**高溫與精準控制**：最高溫度 1000°C；工作溫度可達 950°C。PID 控制器確保 ±1°C 的精度（充氣期間為 ±2°C），工作區內溫度均勻度為 ±5°C。** **

**多樣化氣氛支援**：相容於 N₂、Ar、CO₂、氧氣及空氣；可客製化氣體進氣口與流量控制（浮子式／質子式流量計）。冷態真空度最高可達 7×10⁻³ Pa。

**堅固的爐艙結構**： 採用耐熱鋼結構搭配耐腐蝕隔熱層，可在反覆熱循環下保持穩定。

**先進安全系統**：功能包括過溫警報、氣體保護聯鎖、防爆設計及多模式氣體排放，確保安全運作並符合環境法規。** **

**節能高效**：經優化的隔熱層與結構可減少熱損，在長時間循環過程中提升能源效率。** **

**使用者友善控制**：支援手動與自動操作模式，加熱速率最高可達 10°C/min，可靈活調整製程參數。

## CVSIC 氣氛坩堝爐應用

- **陶瓷燒結**：適用於需要精確熱處理的特殊陶瓷、壓電陶瓷、結構陶瓷及功能性陶瓷。

- **粉末冶金**：非常適合在惰性或受控氣氛環境下燒結金屬粉末及合金。

- **研究與實驗室**：廣泛應用於大學及科研機構，用於 PTC 材料、熒光體、拋光粉及稀土材料的高溫測試。

- **電子與半導體**：支援在潔淨氣體環境下對磁性材料及電子陶瓷基板進行熱處理。

- **材料品質測試**：可進行精確的熱性能評估與批次測試，以驗證材料性能。

## 客製化服務

為滿足多元的工業與學術需求，CVSIC 提供全方位的客製化選項：

- **腔室尺寸：** 可提供客製化腔室尺寸（預設：Φ400 × 600 mm），以符合裝載容量需求。

- **氣氛控制：** 單通道或多通道氣體系統，可針對惰性或氧化性環境量身打造。

- **真空系統：** 根據製程純度需求，提供最高達 7×10⁻³ Pa 或更高的冷態真空選項。

- **加熱功率：** 可調式額定功率（預設：40 kW ±10%），以符合能源效率及批次規模需求。

- **控制系統：** 提供 PLC 觸控螢幕介面、資料記錄及遠端監控功能。

- **全球服務：** 包含安裝指導、操作員培訓及長期維護支援。

## CVSIC 氣氛式回轉爐 技術規格 

| 參數 | 規格 |
| --- | --- |
| 型號 | CV-TF1000 |
| 最高溫度 (°C) | 1000 |
| 工作溫度 (°C) | ≤950 |
| 爐艙尺寸 (寬×高×長, mm) | Φ400 × 600 |
| 額定加熱功率 (kW) | 40 (±10%) |
| 加熱元件 | HRE 電阻絲 |
| 溫度控制精度 | 充氣期間 ±2°C，穩定時 ±1°C |
| 溫度均勻度 | 1000°C 時 ±5°C（三芯熱電偶，有效工作區域） |
| 工作壓力 | ≤0.03MPa |
| 極限真空度（冷態） | 7×10⁻³Pa（爐內空爐，經淨化） |
| 保護氣體 | 氧氣、氮氣、氬氣、空氣等 |
| 溫度感測器 | K型熱電偶 |
| 冷卻方式 | 充氣自然冷卻 |
| 控制方式 | PID控制，手動/自動切換 |
| 升溫速率 | ≤10°C/min |
| 爐體加熱方式 | 熱壁加熱（外部加熱） |

**註：** 規格可依需求客製化。歡迎聯絡我們，討論您的具體製程需求。

## 與 CVSIC 共同啟動您的專案

無論您是開發先進陶瓷，還是進行尖端材料研究，CVSIC 的氣氛式回轉爐皆能提供精準、穩定且可客製化的解決方案，以滿足您的需求。

**立即聯絡我們的技術團隊，獲取諮詢、報價或量身打造的解決方案。******