Horno tubular PECVD

El horno tubular CVSIC 1200℃ PECVD está diseñado para procesos PECVD en investigación e industria. Cuenta con una cámara de fibra de alúmina de alta pureza, calentamiento por hilo de resistencia y una temperatura máxima de 1200℃ (recomendado ≤1100℃). La fuente de plasma RF reduce la temperatura de reacción y aumenta las tasas de deposición. Controladores de flujo de masa triple y un sistema de mezcla de gas proporcionan un control preciso del flujo de gas para el crecimiento de la película.

Este modelo ofrece un control programable de 50 segmentos con una precisión de ±1°C. Su diseño de doble capa mantiene las temperaturas superficiales por debajo de 50°C, y el sistema de bajo vacío garantiza la estabilidad del proceso. Una zona de precalentamiento mejora la calidad y uniformidad de la película. El horno tubular PECVD de CVSIC admite procesos de deposición, síntesis de nanomateriales y plasma para investigación o producción a pequeña escala .

Aplicación del horno tubular CVSIC PECVD

El horno tubular PECVD de CVSIC se utiliza ampliamente en los siguientes campos y procesos:

• Deposición de películas finas: Preparación de películas metálicas, películas cerámicas, películas compuestas y películas finas semiconductoras para las industrias fotovoltaica y microelectrónica.
• Síntesis de nanomateriales: Síntesis de nanomateriales de alto rendimiento, como nanotubos de carbono, grafeno y nanocables de silicio.
• Materiales para baterías de litio: Procesos de revestimiento PECVD para materiales de electrodos de baterías para mejorar el rendimiento y la estabilidad.
• Cerámicas y compuestos: Deposición y tratamiento térmico de películas cerámicas y compuestas en condiciones de alta temperatura.
• Aplicaciones de investigación: Utilizado por universidades e instituciones de investigación para el desarrollo de nuevos materiales y estudios de procesos de plasma.
• Limpieza y grabado por plasma: admite la limpieza de superficies y el grabado de microestructuras para satisfacer las demandas de procesamiento de precisión.

Características del horno tubular CVSIC PECVD

• Alta velocidad de deposición: El plasma RF (13,56 MHz, 500 W) permite una deposición de hasta 10Å/s.
• Uniformidad superior: La RF multipunto y la alimentación de gas logran una uniformidad de película dentro de 8%.
• Alta consistencia: El diseño garantiza una variación inferior a 2% entre sustratos.
• Proceso estable: El equipo garantiza operaciones continuas de PECVD.
• Control preciso de la temperatura: control PID de 50 segmentos, precisión de ±1℃, uniformidad de ±5℃.
• Alto vacío: vacío final de 7×10-⁴ Pa; máx. -0,1 MPa.
• Seguridad: Desconexión automática por sobretemperatura/fugas; superficie refrigerada por aire a <50°C.
• Construcción duradera: La brida ajustable prolonga la vida útil del tubo y reduce el mantenimiento.

Servicios de personalización

Confíe en CVSIC para obtener una personalización completa, garantizando que cada aspecto de sus requisitos de proceso PECVD se adapte de forma experta para obtener los máximos resultados:

• Personalización del tubo del horno: Diámetro del tubo (por defecto 100mm, personalizable) y longitud de la zona de calentamiento (220-1650mm).
• Sistema de vacío: Admite bombas rotativas de paletas, bombas de difusión o bombas moleculares para satisfacer demandas de alto vacío (7×10-⁴ Pa).
• Control de gases: Controladores de flujo másico personalizables de tres canales o multicanal (0-100 sccm, 0-200 sccm o rangos personalizados).
• Sistema de control: Pantalla táctil HD opcional de 7 pulgadas, software de conectividad con PC y función de registro de datos.
• Características adicionales: Módulos ampliables de limpieza por plasma, grabado u otros procesos especializados.
• Asistencia global: La orientación para la instalación, la formación operativa y los servicios de mantenimiento garantizan un funcionamiento estable a largo plazo.

Accesorios para hornos tubulares de PECVD

Accesorios estándar

• Tubos de bloqueo: 4 unidades
• Tubo del horno: 1 pieza
• Bomba de vacío: 1 unidad
• Bridas de sellado al vacío: 2 juegos
• Vacuómetro: 1 ud.
• Sistema de suministro de gas y bomba de vacío: 1 juego
• Equipo de plasma RF: 1 juego

Accesorios opcionales

• Sistema de vacío: Bomba mecánica rotativa de paletas, bomba de difusión, bomba molecular
• Accesorios para bridas: Brida de cierre rápido, brida en T
• Sistema de control: pantalla táctil HD de 7 pulgadas

Especificaciones del horno tubular CVSIC PECVD

Aproveche la ventaja de los hornos tubulares PECVD de CVSIC, la piedra angular de la deposición de películas finas de alta eficiencia y precisión. Solicite ahora un presupuesto a medida, acceda a manuales técnicos detallados o explore soluciones personalizadas. Confíe en el apoyo dedicado de nuestro equipo de expertos para garantizar que su equipo supere las expectativas de éxito experimental o de producción.