Forno a tubo PECVD

Il forno tubolare CVSIC 1200℃ PECVD è progettato per i processi PECVD nella ricerca e nell'industria. È dotato di una camera in fibra di allumina di elevata purezza, riscaldamento a filo di resistenza e una temperatura massima di 1200℃ (consigliata ≤1100℃). La sorgente di plasma RF riduce la temperatura di reazione e aumenta i tassi di deposizione. Tripli regolatori di flusso di massa e un sistema di miscelazione del gas forniscono un controllo preciso del flusso di gas per la crescita del film.

Questo modello offre un controllo programmabile a 50 segmenti con un'accuratezza di ±1°C. Il suo design a doppio strato mantiene le temperature superficiali al di sotto dei 50°C e il sistema a basso vuoto garantisce la stabilità del processo. Una zona di preriscaldamento migliora la qualità e l'uniformità del film. Il forno a tubo PECVD CVSIC supporta la deposizione, la sintesi di nanomateriali e i processi al plasma per la ricerca o la produzione su piccola scala.

Applicazione del forno a tubo PECVD CVSIC

Il forno a tubo PECVD CVSIC è ampiamente utilizzato nei seguenti campi e processi:

• Deposizione di film sottili: Preparazione di film metallici, film ceramici, film compositi e film sottili di semiconduttori per l'industria fotovoltaica e microelettronica.
• Sintesi di nanomateriali: Sintesi di nanomateriali ad alte prestazioni come nanotubi di carbonio, grafene e nanofili di silicio.
• Materiali per batterie al litio: Processi di rivestimento PECVD per i materiali degli elettrodi delle batterie per migliorare le prestazioni e la stabilità.
• Ceramica e compositi: Deposizione e trattamento termico di film ceramici e compositi in condizioni di alta temperatura.
• Applicazioni di ricerca: Utilizzato da università e istituti di ricerca per lo sviluppo di nuovi materiali e lo studio dei processi al plasma.
• Pulizia e incisione al plasma: supporta la pulizia della superficie e l'incisione della microstruttura per soddisfare le esigenze di lavorazione di precisione.

Caratteristiche del forno a tubo PECVD CVSIC

• Alta velocità di deposizione: Il plasma RF (13,56 MHz, 500 W) consente una deposizione fino a 10Å/s.
• Uniformità superiore: L'alimentazione a radiofrequenza e a gas in più punti consente di ottenere un'uniformità del film entro 8%.
• Elevata coerenza: Il design garantisce una variazione inferiore a 2% tra i substrati.
• Processo stabile: L'apparecchiatura garantisce operazioni PECVD continue.
• Controllo preciso della temperatura: controllo PID a 50 segmenti, precisione di ±1℃, uniformità di ±5℃.
• Alto vuoto: vuoto finale di 7×10-⁴ Pa; max -0,1 MPa.
• Sicurezza: Spegnimento automatico per sovratemperatura/perdita; raffreddamento ad aria per una superficie di <50°C.
• Costruzione durevole: La flangia regolabile prolunga la durata del tubo e riduce la manutenzione.

Servizi di personalizzazione

Affidatevi a CVSIC per ottenere una personalizzazione completa, assicurando che ogni aspetto dei vostri requisiti di processo PECVD sia sapientemente abbinato per ottenere i massimi risultati:

• Personalizzazione del tubo del forno: Diametro del tubo (100 mm di default, personalizzabile) e lunghezza della zona di riscaldamento (220-1650 mm).
• Sistema per il vuoto: Supporta pompe rotative a palette, pompe a diffusione o pompe molecolari per soddisfare le esigenze di vuoto elevato (7×10-⁴ Pa).
• Controllo del gas: Controllori di flusso di massa a tre o più canali personalizzabili (0-100 sccm, 0-200 sccm o intervalli personalizzati).
• Sistema di controllo: Touchscreen HD da 7 pollici opzionale, software di connettività per PC e funzionalità di registrazione dei dati.
• Caratteristiche aggiuntive: Moduli espandibili per la pulizia al plasma, l'incisione o altri processi specializzati.
• Assistenza globale: Guida all'installazione, formazione operativa e servizi di manutenzione garantiscono un funzionamento stabile a lungo termine.

Accessori per forni a tubo PECVD

Accessori standard

• Tubi di blocco: 4 pezzi
• Tubo del forno: 1 pezzo
• Pompa per vuoto: 1 unità
• Flange di tenuta a vuoto: 2 set
• Manometro del vuoto: 1 pz.
• Sistema di erogazione del gas e pompa del vuoto: 1 set
• Apparecchiatura al plasma RF: 1 set

Accessori opzionali

• Sistema del vuoto: Pompa meccanica a palette, pompa a diffusione, pompa molecolare.
• Accessori per flange: Flangia a sgancio rapido, flangia a T
• Sistema di controllo: touchscreen HD da 7 pollici

Specifiche del forno a tubo PECVD CVSIC

Cogliete il vantaggio con i forni a tubo PECVD di CVSIC, la pietra miliare per la deposizione di film sottili ad alta efficienza e precisione. Contattateci subito per un preventivo su misura, per accedere a manuali tecnici dettagliati o per esplorare soluzioni personalizzate. Affidatevi al supporto dedicato del nostro team di esperti per garantire che la vostra apparecchiatura superi le aspettative di successo sperimentale o produttivo.