CVD管状炉

CVSIC真空ラボ用CVD管状炉は、化学蒸着と高温熱処理用に設計され、大学の研究室、研究機関、製造業者に使用されています。高純度セラミックファイバーチャンバー、堅牢な抵抗ワイヤーまたはロッド、高純度石英またはアルミナチューブにより、高真空と精密なガスフロー制御を維持しながら、最高1600℃の温度に達します。ステンレス鋼のフランジは、純粋な環境と効率的な結果を保証します。

50セグメントのプログラマブル制御、二層空冷、±1℃の精度で、このシステムは高度な蒸着と熱処理をサポートします。ガス混合と流量制御を統合し、高精度研究や少量生産のニーズに最適です。

CVSIC CVD管状炉アプリケーション

CVSIC真空CVD管状炉は、科学、工業、製造の幅広い先端用途に対応し、新たな可能性を切り開きます：

• 薄膜蒸着：半導体膜、コーティング、機能性材料を作製するための化学気相成長法（CVD）。
• ナノ材料作製：カーボンナノチューブ、シリコンワイヤー、薄層材料を作製し、熱処理する。
• リチウム電池材料：正極および負極材料のCVDプロセスと高温焼結。
• セラミックスと粉末冶金：セラミックスや金属粉末を高熱で被覆・処理するために使用される。
• 科学研究：新素材の創出を支援し、学校や研究所での基礎研究を支援する。
• 産業用途：CVD法による精密なフィルムや材料の少量生産に使用される。

CVSIC CVD管状炉の特徴

• 広い温度範囲：1200℃、1400℃、1600℃（動作温度1100℃、1300℃、1600℃）に対応し、多様なCVDプロセスに対応。
• 高真空性能：7×10-⁴Paの極限真空と-0.1MPaの最大真空により、純粋な蒸着環境を維持。
• 正確なガス制御：ガス混合タンクと流量計により、N₂、Ar、マルチガスを正確に制御。
• フレキシブルな炉管オプション高純度石英(1200℃)またはアルミナ(1400℃、1600℃)管は、耐高温性と耐食性を提供します。
• インテリジェント温度制御：50セグメントPID制御により、±1℃の精度と±5℃の均一性を保証。
• 安全設計：安全な自動電源遮断、二重層空冷により表面温度は50℃以下に保たれる。
• 耐久性のある構造：調整可能なフランジ設計により、チューブの寿命を延ばし、メンテナンスの必要性を低減。
• 効率的な加熱：20℃/分まで加熱し、実験効率を最適化。

カスタマイズ・サービス

CVSICは、お客様独自のCVDプロセス要件にシームレスに適合し、すべての仕様が正確に満たされることを保証するために、完全にカスタマイズされたソリューションを提供します：

• 炉管のカスタマイズ：管径は40mmから120mm、加熱ゾーンの長さは300mm、350mm、400mm、450mmから選択可能。高純度石英または酸化アルミニウムから研究要件に応じて選択。
• 温度設定：1200℃、1400℃、1600℃の温度範囲でカスタマイズ可能。
• 発熱体：オプションとして、HREモリブデン含有抵抗線があります、 炭化ケイ素棒あるいは MoSi2 ヒーティングロッド.お客様の温度およびプロセス要件に最適なヒーターエレメントをお選びください。
• 真空およびガスシステム：高真空（7×10-⁴ Pa）、低真空構成、または特定のガス種用の流量計を備えたマルチガスコントロールシステムから選択できます。
• コントロールシステム：7インチHDタッチスクリーン、遠隔操作用PC接続ソフトウェア、またはデータロギング機能のいずれかを選択し、モニタリングの好みに合わせます。
• グローバルサポート：設置指導、操作トレーニング、保守サービスを提供し、長期安定運用を実現。

CVSIC真空研究所CVD管状炉アクセサリー

標準アクセサリー

• チューブプラグ: 4個
• ファーネスチューブ1本
• 真空ポンプ：1台
• 真空シールフランジ：2セット
• バキュームゲージ1台
• ガス混合タンク：1基
• フローメーター：1台

オプションアクセサリー

• 真空システムロータリーベーンポンプ、拡散ポンプ、分子ポンプ
• フランジアクセサリクイックリリースフランジ、ティーフランジ
• コントロールシステム：7インチHDタッチスクリーン

CVSIC CVD管状炉のパワーを引き出し、最も要求の厳しい蒸着ニーズにお応えします！お見積もり、詳細な技術マニュアルへのアクセス、カスタマイズされたサポートのご依頼は、今すぐ弊社チームまでご連絡ください。CVSICのスペシャリストが、お客様のラボや生産要件に最適な装置をご提供いたします。