Трубчатая печь PECVD

Трубчатая печь CVSIC 1200℃ PECVD предназначена для процессов PECVD в научных исследованиях и промышленности. Она имеет камеру из высокочистого глиноземного волокна, резистивный проволочный нагрев и максимальную температуру 1200℃ (рекомендуемая ≤1100℃). Источник радиочастотной плазмы снижает температуру реакции и увеличивает скорость осаждения. Тройные контроллеры массового расхода и система смешивания газов обеспечивают точное управление потоком газа для роста пленки.

Эта модель предлагает 50-сегментное программируемое управление с точностью ±1°C. Двухслойная конструкция поддерживает температуру поверхности ниже 50°C, а система низкого вакуума обеспечивает стабильность процесса. Зона предварительного нагрева улучшает качество и однородность пленки. Трубчатая печь CVSIC PECVD поддерживает процессы осаждения, синтеза наноматериалов и плазменные процессы для исследований или мелкосерийного производства.

Применение трубчатой печи CVSIC PECVD

Трубчатая печь CVSIC PECVD широко используется в следующих областях и процессах:

• Осаждение тонких пленок: Получение металлических, керамических, композитных и полупроводниковых тонких пленок для фотоэлектрической и микроэлектронной промышленности.
• Синтез наноматериалов: Синтез высокоэффективных наноматериалов, таких как углеродные нанотрубки, графен и кремниевые нанопроволоки.
• Материалы для литиевых батарей: Процессы нанесения покрытий методом PECVD на электродные материалы аккумуляторов для повышения производительности и стабильности.
• Керамика и композиты: Осаждение и термическая обработка керамических и композитных пленок в высокотемпературных условиях.
• Применение в научных исследованиях: Используется университетами и исследовательскими институтами для разработки новых материалов и изучения плазменных процессов.
• Плазменная очистка и травление: обеспечивает очистку поверхности и травление микроструктуры для удовлетворения требований к точности обработки.

Особенности трубчатой печи CVSIC PECVD

• Высокая скорость осаждения: Радиочастотная плазма (13,56 МГц, 500 Вт) обеспечивает скорость осаждения до 10Å/с.
• Превосходная однородность: Многоточечная радиочастотная и газовая подача позволяет достичь однородности пленки в пределах 8%.
• Высокая согласованность: Дизайн обеспечивает менее 2% вариаций между субстратами.
• Стабильный процесс: Оборудование гарантирует непрерывность операций PECVD.
• Точный контроль температуры: 50-сегментный ПИД-регулятор, точность ±1℃, равномерность ±5℃.
• Высокий вакуум: предельный вакуум 7×10-⁴ Па; максимум -0,1 МПа.
• Безопасность: Автоматическое отключение при перегреве/утечке; воздушное охлаждение поверхности до <50°C.
• Прочная конструкция: Регулируемый фланец продлевает срок службы трубки и сокращает объем технического обслуживания.

Услуги по настройке

Доверьте CVSIC всестороннюю настройку, гарантирующую, что каждый аспект ваших требований к процессу PECVD будет точно согласован для достижения максимальных результатов:

• Настройка трубки печи: Диаметр трубы (по умолчанию 100 мм, настраивается) и длина зоны нагрева (220-1650 мм).
• Вакуумная система: Поддерживает пластинчато-роторные насосы, диффузионные насосы или молекулярные насосы для удовлетворения требований высокого вакуума (7×10-⁴ Па).
• Контроль газа: Настраиваемые трехканальные или многоканальные контроллеры массового расхода (0-100 куб. м, 0-200 куб. м или пользовательские диапазоны).
• Система управления: Опциональный 7-дюймовый сенсорный экран HD, программное обеспечение для подключения к ПК и функция регистрации данных.
• Дополнительные возможности: Расширяемые модули плазменной очистки, травления или других специализированных процессов.
• Глобальная поддержка: Руководство по установке, обучение эксплуатации и техническое обслуживание обеспечивают долгосрочную стабильную работу.

Аксессуары для трубчатых печей PECVD

Стандартные аксессуары

• Блокирующие трубки: 4 шт.
• Печная труба: 1 шт
• Вакуумный насос: 1 шт.
• Вакуумные уплотнительные фланцы: 2 комплекта
• Вакуумный манометр: 1 шт.
• Система подачи газа и вакуумный насос: 1 комплект
• Плазменное оборудование RF: 1 комплект

Дополнительные аксессуары

• Вакуумная система: Пластинчато-роторный механический насос, диффузионный насос, молекулярный насос
• Аксессуары для фланцев: Быстросъемный фланец, тройниковый фланец
• Система управления: 7-дюймовый сенсорный экран HD

Технические характеристики трубчатой печи CVSIC PECVD

Воспользуйтесь преимуществом с помощью трубчатых печей CVSIC PECVD - краеугольного камня для высокоэффективного и высокоточного осаждения тонких пленок. Свяжитесь с нами прямо сейчас, чтобы получить индивидуальное предложение, ознакомиться с подробными техническими руководствами или изучить индивидуальные решения. Положитесь на специализированную поддержку нашей команды экспертов, чтобы ваше оборудование превзошло ожидания для экспериментального или производственного успеха.