Horno tubular CVD

El horno tubular CVD de laboratorio al vacío CVSIC está diseñado para la deposición química en fase vapor y el tratamiento térmico a alta temperatura, y sirve a laboratorios universitarios, instituciones de investigación y fabricantes. Con una cámara de fibra cerámica de alta pureza, robustos alambres o varillas de resistencia y tubos de cuarzo o alúmina de alta pureza, alcanza temperaturas de hasta 1600℃ manteniendo un alto vacío y un control preciso del flujo de gas. Las bridas de acero inoxidable garantizan un entorno puro y resultados eficientes.

Con un control programable de 50 segmentos, refrigeración por aire de doble capa y una precisión de ±1 °C, este sistema admite la deposición y el tratamiento térmico avanzados. Integra la mezcla de gases y el control de flujo, por lo que es ideal para la investigación de alta precisión y las necesidades de producción de pequeño volumen.

Aplicación del horno tubular CVD CVSIC

Abra nuevas posibilidades con el horno tubular de CVD al vacío CVSIC para una amplia gama de aplicaciones científicas, industriales y de fabricación avanzadas:

• Deposición de películas finas: Deposición química en fase vapor (CVD) para preparar películas semiconductoras, revestimientos y materiales funcionales.
• Preparación de nanomateriales: Fabricación y tratamiento térmico de nanotubos de carbono, hilos de silicio y materiales de capas finas.
• Materiales para baterías de litio: Procesos CVD y sinterización a alta temperatura para materiales de cátodo y ánodo.
• Cerámica y pulvimetalurgia: Se utiliza para recubrir y tratar cerámica y polvo metálico a alto calor.
• Investigación científica: Ayuda a crear nuevos materiales y apoya la investigación básica en escuelas y laboratorios.
• Aplicaciones industriales: Se utiliza para la producción de lotes pequeños de películas y materiales precisos con métodos CVD.

Características del horno tubular CVD CVSIC

• Amplia gama de temperaturas: Soporta 1200℃, 1400℃, 1600℃ (temperaturas de funcionamiento 1100℃, 1300℃, 1600℃) para satisfacer diversos requisitos del proceso CVD.
• Alto rendimiento de vacío: El vacío final de 7×10-⁴ Pa y el vacío máximo de -0,1 MPa mantienen un entorno de deposición puro.
• Control preciso del gas: El tanque de mezcla de gases y el caudalímetro proporcionan una regulación precisa de N₂, Ar y multigas.
• Opciones de tubos de horno flexibles: Los tubos de cuarzo de alta pureza (1200℃) o alúmina (1400℃, 1600℃) ofrecen resistencia a altas temperaturas y a la corrosión.
• Control inteligente de la temperatura: el control PID de 50 segmentos garantiza una precisión de ±1℃ y una uniformidad de ±5℃.
• Diseño seguro: Desconexión automática de la alimentación para mayor seguridad; la refrigeración por aire de doble capa mantiene la superficie por debajo de 50℃.
• Construcción duradera: El diseño de brida ajustable prolonga la vida útil del tubo y reduce las necesidades de mantenimiento.
• Calentamiento eficiente: Calienta hasta 20℃/min, optimizando la eficiencia experimental.

Servicios de personalización

CVSIC le ofrece soluciones totalmente personalizadas para garantizar un ajuste perfecto a sus requisitos exclusivos de proceso de CVD, garantizando el cumplimiento exacto de todas las especificaciones:

• Personalización del tubo del horno: Seleccione diámetros de tubo de 40 mm a 120 mm y longitudes de zona de calentamiento de 300 mm, 350 mm, 400 mm o 450 mm. Elija entre materiales de cuarzo de gran pureza u óxido de aluminio según sus requisitos de investigación.
• Configuración de temperatura: Rangos de temperatura personalizables de 1200℃, 1400℃ o 1600℃ para requisitos específicos del proceso.
• Elementos calefactores: Las opciones incluyen alambre de resistencia con molibdeno HRE, barras de carburo de silicioo Varillas calefactoras de MoSi2. Seleccione el elemento calefactor que mejor se adapte a sus requisitos de temperatura y proceso.
• Sistema de vacío y gas: Elija entre configuraciones de alto vacío (7×10-⁴ Pa), bajo vacío o un sistema de control multigas con caudalímetros para tipos de gas específicos.
• Sistema de control: Seleccione una pantalla táctil HD de 7 pulgadas, software de conectividad con PC para funcionamiento remoto o funcionalidad de registro de datos para adaptarse a sus preferencias de supervisión.
• Asistencia global: Proporciona orientación para la instalación, formación operativa y servicios de mantenimiento para garantizar un funcionamiento estable a largo plazo.

CVSIC Laboratorio de vacío CVD Horno tubular Accesorios

Accesorios estándar

• Tapones de tubo: 4 piezas
• Tubo del horno: 1 pieza
• Bomba de vacío: 1 unidad
• Bridas de sellado al vacío: 2 juegos
• Vacuómetro: 1 unidad
• Tanque de mezcla de gas: 1 unidad
• Caudalímetro: 1 unidad

Accesorios opcionales

• Sistema de vacío: Bomba rotativa de paletas, bomba de difusión, bomba molecular
• Accesorios para bridas: Bridas de cierre rápido, Bridas en T
• Sistema de control: pantalla táctil HD de 7 pulgadas

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