Forno tubolare CVD

Il forno CVD da laboratorio sottovuoto CVSIC è costruito per la deposizione di vapore chimico e il trattamento termico ad alta temperatura e serve laboratori universitari, istituti di ricerca e produttori. Con una camera in fibra ceramica di elevata purezza, robusti fili o barre di resistenza e tubi di quarzo o allumina di elevata purezza, raggiunge temperature fino a 1600℃ mantenendo un vuoto elevato e un controllo preciso del flusso di gas. Le flange in acciaio inox garantiscono un ambiente puro e risultati efficienti.

Con un controllo programmabile a 50 segmenti, un raffreddamento ad aria a doppio strato e una precisione di ±1°C, questo sistema supporta deposizioni e trattamenti termici avanzati. Integra la miscelazione dei gas e il controllo del flusso, rendendolo ideale per la ricerca di alta precisione e per le esigenze di produzione di piccoli volumi.

Applicazione del forno CVSIC CVD a tubo

Con il forno a tubi CVD sottovuoto CVSIC si aprono nuove possibilità per un'ampia gamma di applicazioni scientifiche, industriali e produttive avanzate:

• Deposizione di film sottili: Deposizione di vapore chimico (CVD) per la preparazione di film semiconduttori, rivestimenti e materiali funzionali.
• Preparazione di nanomateriali: realizzare e trattare termicamente nanotubi di carbonio, fili di silicio e materiali a strato sottile.
• Materiali per batterie al litio: Processi CVD e sinterizzazione ad alta temperatura per materiali catodici e anodici.
• Ceramica e metallurgia delle polveri: Utilizzato per ricoprire e trattare ceramiche e polveri metalliche ad alto calore.
• Ricerca scientifica: Contribuisce alla creazione di nuovi materiali e sostiene la ricerca di base nelle scuole e nei laboratori.
• Applicazioni industriali: Utilizzato per la produzione in piccoli lotti di film e materiali precisi con metodi CVD.

Caratteristiche del forno tubolare CVSIC

• Ampio intervallo di temperatura: Supporta 1200℃, 1400℃, 1600℃ (temperature operative 1100℃, 1300℃, 1600℃) per soddisfare i diversi requisiti del processo CVD.
• Elevate prestazioni di vuoto: Il vuoto finale di 7×10-⁴ Pa e il vuoto massimo di -0,1 MPa garantiscono un ambiente di deposizione puro.
• Controllo preciso del gas: Il serbatoio di miscelazione del gas e il flussometro garantiscono una regolazione precisa di N₂, Ar e multigas.
• Opzioni di tubi flessibili per forni: I tubi in quarzo di elevata purezza (1200℃) o in allumina (1400℃, 1600℃) offrono resistenza alle alte temperature e alla corrosione.
• Controllo intelligente della temperatura: il controllo PID a 50 segmenti garantisce una precisione di ±1℃ e un'uniformità di ±5℃.
• Design di sicurezza: Spegnimento automatico per sicurezza; il raffreddamento ad aria a doppio strato mantiene la superficie al di sotto dei 50℃.
• Costruzione durevole: Il design della flangia regolabile prolunga la durata del tubo e riduce le esigenze di manutenzione.
• Riscaldamento efficiente: Riscalda fino a 20℃/min, ottimizzando l'efficienza sperimentale.

Servizi di personalizzazione

CVSIC vi offre soluzioni completamente personalizzate per garantire un adattamento perfetto ai vostri requisiti unici di processo CVD, assicurando che ogni specifica sia esattamente soddisfatta:

• Personalizzazione del tubo del forno: È possibile scegliere diametri del tubo da 40 mm a 120 mm e lunghezze della zona di riscaldamento di 300 mm, 350 mm, 400 mm o 450 mm. Scegliete tra quarzo di elevata purezza o materiali in ossido di alluminio in base ai vostri requisiti di ricerca.
• Configurazione della temperatura: Intervalli di temperatura personalizzabili a 1200℃, 1400℃ o 1600℃ per requisiti di processo specifici.
• Elementi riscaldanti: Le opzioni includono il filo di resistenza HRE contenente molibdeno, barre di carburo di silicio, o Aste di riscaldamento MoSi2. Selezionare l'elemento riscaldante più adatto alle esigenze di temperatura e di processo.
• Sistema di vuoto e gas: Scegliete tra configurazioni ad alto vuoto (7×10-⁴ Pa), a basso vuoto o un sistema di controllo multigas con misuratori di flusso per tipi di gas specifici.
• Sistema di controllo: Scegliete un touchscreen HD da 7 pollici, un software di connettività PC per il funzionamento a distanza o una funzionalità di registrazione dei dati per soddisfare le vostre preferenze di monitoraggio.
• Assistenza globale: Fornisce assistenza per l'installazione, formazione operativa e servizi di manutenzione per garantire un funzionamento stabile a lungo termine.

Accessori per forni a tubo CVD da laboratorio sottovuoto CVSIC

Accessori standard

• Tappi per tubi: 4 pezzi
• Tubo del forno: 1 pezzo
• Pompa per vuoto: 1 unità
• Flange di tenuta a vuoto: 2 set
• Misuratore di vuoto: 1 unità
• Serbatoio di miscelazione del gas: 1 unità
• Misuratore di portata: 1 unità

Accessori opzionali

• Sistema del vuoto: Pompa rotativa a palette, pompa a diffusione, pompa molecolare
• Accessori per flange: Flange a sgancio rapido, flange a Tee
• Sistema di controllo: Touchscreen HD da 7 pollici

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