
管式爐綜合指南:類型、原理和應用
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多區管式爐支援 1200°C 至 1600°C 的溫度,具有雙區、三區或五區獨立溫度控制,適用於奈米材料、薄膜沉積及鋰電池材料燒結。提供高真空 (7×10-⁴Pa) 及惰性氣氛 (N₂、CO₂、Ar) 支援,滿足全球研究及生產需求。現在就聯絡我們!
多區管式爐是專為材料科學和奈米技術設計的先進熱處理裝置,支援雙區、三區或五區獨立溫度控制,最高溫度可達 1600°C。
它的特色是採用高純度氧化鋁多晶纖維爐腔,配備鉬電阻線、碳化矽棒或矽鉬棒作為加熱元件。爐管有高純度石英(1200°C)或氧化鋁(1400°C、1600°C)兩種。支援高真空 (7×10-⁴ Pa,分子泵) 及惰性氣氛 (N₂、CO₂、Ar),304 不鏽鋼雙密封法蘭可確保純淨的熱處理環境。
本爐型採用 30 段可程式智慧型控制系統,溫度控制精度為 ±1°C,適用於燒結、脫膠、熱處理及化學氣相沉積 (CVD) 等製程,尤其適合製備奈米碳管、奈米矽線及鋰電池材料。廣泛應用於大學、研究所、工礦企業的實驗室及小規模生產。
請注意: 爐管尺寸、功率、溫區數量、真空度和氣氛系統均可根據客戶的特定要求進行定制。如需詳細技術規格,請與我們聯絡。
多區管式爐配備先進的技術和以使用者為中心的設計,具有以下核心優勢:
多區管式爐廣泛應用於下列產業和製程:
此爐型可為需要多區精確控制、高真空和複雜製程的客戶提供有效的解決方案,特別適合實驗室研究和小規模生產。
CVSIC 提供全面的客製化服務,確保與您的生產及研發需求無縫整合:
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