真空管爐

真空管爐是專為高溫熱處理和氣氛控制而設計的先進設備。它廣泛應用於金屬加工、鋰電池材料、陶瓷、粉末冶金和研究實驗。

它採用高純度陶瓷纖維爐腔，配備 HRE 鉬電阻線、 碳化矽棒或 MoSi2 加熱元件，最高溫度為 1600°C。它支援高真空/低真空 (7×10-⁴Pa, 分子泵) 和惰性氣氛 (N₂, CO₂, Ar)。爐管有高純度石英（1200°C）或氧化鋁（1400°C、1600°C）可供選擇，搭配 304 不鏽鋼雙層密封法蘭，可確保高效率的加熱與純淨的氣氛。

此爐型具有 30 段可程式智慧型控制系統及雙層風冷結構，可支援燒結、銅銲、化學氣相沉積 (CVD) 及熱處理製程。它採用全新的多溫區設計（雙溫區、三溫區和五溫區），每個溫區都能獨立控溫，適合製備碳奈米管、矽奈米線和複雜製程。適用於大學、研究機構、工業企業的實驗室研究與小規模生產。

請注意： 爐管尺寸、功率、真空度、溫區數量和氣氛系統均可客製化，以滿足客戶的特定需求。如需詳細技術規格，請與我們聯絡。

CVSIC 真空管爐特點

真空管爐採用先進的技術和以使用者為中心的設計，具有以下核心優勢：

• 溫度範圍寬廣： 支援 1200°C、1400°C 及 1600°C（操作溫度為 1100°C、1300°C 及 1600°C），滿足多樣化的熱處理需求。
• 高真空性能： 配備分子泵，可達到 7×10-⁴ Pa 的極限真空和 -0.1 MPa 的最大真空度，確保純淨的熱處理環境。
• 精確的氣氛控制： 支援惰性氣氛（N₂、CO₂、Ar），304 不銹鋼雙層密封法蘭可防止氣體洩漏，優化燒結效果。
• 靈活的爐管選擇： 高純度石英（1200°C）或高純度氧化鋁（1400°C、1600°C），耐高溫、耐腐蝕，延長使用壽命。
• 多區溫度控制： 支援雙區、三區及五區獨立溫度控制，滿足 CVD 及奈米材料製備等複雜製程的需求。
• 智慧型溫度控制： 30 段可程式 PID 控制，溫度精確度 ±1°C，加熱速率 ≤20°C/分鐘，滿足高精度製程需求。
• 安全保護： 過溫及漏電自動斷電保護，雙層風冷結構確保表面溫度低於 50°C，確保操作安全。
• 耐用設計： 兩端的可調式凸緣支撐結構可減少對爐管的壓力，並延長使用壽命。
• 標準配件： 這些產品包括管塞、熱電偶、爐管、真空泵、真空法蘭和真空壓力計，以簡化操作流程。

CVSIC 真空管爐應用

真空管爐廣泛應用於下列產業和製程：

• 鋰離子電池材料： 陰極和陽極材料的燒結和化學氣相沉積。
• 陶瓷產業： 特殊陶瓷、電子陶瓷和功能陶瓷的燒結和熱處理。
• 粉末冶金： 金屬粉末與合金材料的高溫燒結與熱處理。
• 研究與實驗室： 大學和機構使用它進行新材料（如碳奈米管、矽奈米線和複合材料）的熱處理實驗。
• 氣相沉積： 化學氣相沉積 (CVD) 和薄膜沉積製程。
• 銅焊： 高精密金屬和陶瓷元件的銅焊。

此爐型可為需要高真空、精確溫度控制和多溫區製程的客戶提供有效的解決方案，特別適合實驗室研究和小規模生產。

客製化服務

CVSIC 提供全面的客製化服務，確保與您的生產和研發需求無縫整合：

• 爐管尺寸和材料： 可客製化爐管直徑 (40-120 mm) 及加熱區長度 (220-450 mm)，支援高純度石英或氧化鋁材料。
• 溫度配置： 支援 1200°C、1400°C 或 1600°C 的客製化溫度範圍，以因應特定製程。
• 加熱元件： 可選擇 HRE 鉬電阻線、碳化矽棒或高純度鉬棒，以最佳化加熱效率。
• 真空和氣氛系統： 客製化高真空 (7×10-⁴ Pa)、低真空或惰性氣體系統，支援浮子/質量流量計及多通道氣體控制。
• 多區域設計： 客製化雙區、三區或五區獨立溫度控制，滿足複雜的製程需求。
• 控制系統： 配備 7 吋高解析度觸控螢幕、與電腦連線的軟體，以及可提升自動化水準的資料記錄控制程式。

選購配件

• 真空系統： 旋片機械泵、擴散泵或分子泵。
• 氣氛系統： 浮子/質量流量計，多種氣體控制。
• 快速釋放/三通法蘭： 提升操作便利性。
• 全球支援： 提供安裝指導、操作訓練和維護服務，以確保設備的長期穩定運作。

請與 CVSIC 聯絡，我們將針對您的產業提供客製化真空管爐解決方案，並支援全球批發與客製化訂單。