CVD-Rohrofen

Der CVSIC Vakuum-Labor-CVD-Rohrofen wurde für die chemische Gasphasenabscheidung und Hochtemperatur-Wärmebehandlung gebaut und dient Universitätslabors, Forschungseinrichtungen und Herstellern. Mit einer Kammer aus hochreinen Keramikfasern, robusten Widerstandsdrähten oder -stäben und hochreinen Quarz- oder Aluminiumoxidrohren erreicht er Temperaturen von bis zu 1600℃ bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung eines hohen Vakuums und präziser Gasflusskontrolle. Flansche aus rostfreiem Stahl sorgen für eine reine Umgebung und effiziente Ergebnisse.

Mit einer programmierbaren 50-Segment-Steuerung, Zweischicht-Luftkühlung und einer Genauigkeit von ±1°C unterstützt dieses System die fortschrittliche Abscheidung und Wärmebehandlung. Es integriert Gasmischung und Durchflusskontrolle und ist damit ideal für die hochpräzise Forschung und die Produktion kleinerer Stückzahlen.

CVSIC CVD-Rohrofen Anwendung

Erschließen Sie mit dem CVSIC Vakuum-CVD-Rohrofen neue Möglichkeiten für eine breite Palette fortschrittlicher wissenschaftlicher, industrieller und produzierender Anwendungen:

• Dünnschichtabscheidung: Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) zur Herstellung von Halbleiterschichten, Beschichtungen und Funktionsmaterialien.
• Vorbereitung von Nanomaterialien: Stellen Sie Kohlenstoffnanoröhren, Siliziumdrähte und dünnschichtige Materialien her und behandeln Sie diese wärmebehandelt.
• Lithium-Batterie-Materialien: CVD-Verfahren und Hochtemperatursintern für Kathoden- und Anodenmaterialien.
• Keramiken und Pulvermetallurgie: Zum Abdecken und Behandeln von Keramik und Metallpulver bei hoher Hitze.
• Wissenschaftliche Forschung: Hilft bei der Entwicklung neuer Materialien und unterstützt die Grundlagenforschung in Schulen und Labors.
• Industrielle Anwendungen: Für die Kleinserienproduktion von präzisen Filmen und Materialien mit CVD-Methoden.

CVSIC CVD-Rohrofen Merkmale

• Breiter Temperaturbereich: Unterstützt 1200℃, 1400℃, 1600℃ (Betriebstemperaturen 1100℃, 1300℃, 1600℃), um verschiedene CVD-Prozessanforderungen zu erfüllen.
• Hohe Vakuumleistung: Ein Endvakuum von 7×10-⁴ Pa und ein maximales Vakuum von -0,1 MPa sorgen für eine reine Abscheidungsumgebung.
• Präzise Gassteuerung: Gasmischbehälter und Durchflussmesser sorgen für eine präzise N₂-, Ar- und Multigas-Regelung.
• Flexible Ofenrohr-Optionen: Hochreine Quarz- (1200℃) oder Aluminiumoxid- (1400℃, 1600℃) Rohre bieten Hochtemperatur- und Korrosionsbeständigkeit.
• Intelligente Temperaturregelung: 50-Segment-PID-Regelung sorgt für ±1℃ Genauigkeit und ±5℃ Gleichmäßigkeit.
• Sicherheitsdesign: Automatische Stromabschaltung zur Sicherheit; zweischichtige Luftkühlung hält die Oberfläche unter 50℃.
• Langlebige Konstruktion: Die verstellbare Flanschkonstruktion verlängert die Lebensdauer der Rohre und verringert den Wartungsbedarf.
• Effiziente Heizung: Heizt mit bis zu 20℃/min und optimiert so die experimentelle Effizienz.

Anpassungsdienste

CVSIC bietet Ihnen vollständig maßgeschneiderte Lösungen, die sich nahtlos in Ihre individuellen CVD-Prozessanforderungen einfügen und sicherstellen, dass jede Spezifikation genau erfüllt wird:

• Ofenrohr-Anpassung: Wählen Sie Rohrdurchmesser von 40mm bis 120mm und Heizzonenlängen von 300mm, 350mm, 400mm oder 450mm. Wählen Sie je nach Ihren Forschungsanforderungen zwischen hochreinem Quarz oder Aluminiumoxid.
• Temperatur-Konfiguration: Anpassbare 1200℃, 1400℃ oder 1600℃ Temperaturbereiche für spezifische Prozessanforderungen.
• Heizelemente: Die Optionen umfassen HRE molybdänhaltigen Widerstandsdraht, Siliziumkarbid-Stäbe, oder MoSi2 Heizstäbe. Wählen Sie das Heizelement, das Ihren Temperatur- und Prozessanforderungen am besten entspricht.
• Vakuum & Gas System: Wählen Sie zwischen Hochvakuum (7×10-⁴ Pa), Niedrigvakuum-Konfigurationen oder einem Multi-Gas-Kontrollsystem mit Durchflussmessern für bestimmte Gasarten.
• Kontrollsystem: Wählen Sie zwischen einem 7-Zoll-HD-Touchscreen, einer PC-Konnektivitätssoftware für die Fernsteuerung oder einer Datenprotokollierungsfunktion, je nach Ihren Überwachungsvorlieben.
• Globale Unterstützung: Bietet Installationsanleitungen, Betriebsschulungen und Wartungsdienste, um einen langfristig stabilen Betrieb zu gewährleisten.

CVSIC Vakuum-Labor CVD-Rohrofen Zubehör

Standard Zubehör

• Rohrstopfen: 4 Stück
• Ofenrohr: 1 Stück
• Vakuumpumpe: 1 Einheit
• Vakuumversiegelungsflansche: 2 Sätze
• Vakuum-Messgerät: 1 Stück
• Gasmischtank: 1 Einheit
• Durchflussmesser: 1 Einheit

Optionales Zubehör

• Vakuum-System: Drehschieberpumpe, Diffusionspumpe, Molekularpumpe
• Flansch-Zubehör: Quick-Release Flansche, T-Flansche
• Steuerungssystem: 7-Zoll-HD-Touchscreen

Nutzen Sie die Leistungsfähigkeit der CVSIC CVD-Röhrenöfen für die anspruchsvollsten Anforderungen bei der Gasphasenabscheidung! Kontaktieren Sie unser Team noch heute, um ein sofortiges Angebot zu erhalten, auf detaillierte technische Handbücher zuzugreifen oder individuelle Unterstützung anzufordern. Entscheiden Sie sich für CVSIC und erleben Sie persönliches Fachwissen - unsere Spezialisten sorgen dafür, dass Ihre Anlage perfekt auf Ihre Labor- oder Produktionsanforderungen abgestimmt ist.