PECVD-Rohrofen

Der CVSIC 1200℃ PECVD-Rohrofen ist für PECVD-Prozesse in Forschung und Industrie konzipiert. Er verfügt über eine hochreine Aluminiumoxid-Faserkammer, eine Widerstandsdrahtheizung und eine maximale Temperatur von 1200℃ (empfohlen ≤1100℃). Die RF-Plasmaquelle reduziert die Reaktionstemperatur und erhöht die Abscheidungsraten. Dreifache Massenflussregler und ein Gasmischsystem sorgen für eine präzise Steuerung des Gasflusses für das Filmwachstum.

Dieses Modell bietet eine programmierbare Steuerung mit 50 Segmenten und einer Genauigkeit von ±1°C. Sein zweischichtiges Design hält die Oberflächentemperaturen unter 50°C, und das Niedervakuumsystem sorgt für Prozessstabilität. Eine Vorwärmzone verbessert die Qualität und Gleichmäßigkeit der Schichten. Der CVSIC PECVD-Rohrofen unterstützt die Abscheidung, die Synthese von Nanomaterialien und Plasmaprozesse für die Forschung oder die Produktion im kleinen Maßstab.

CVSIC PECVD-Rohrofen Anwendung

Der CVSIC PECVD-Rohrofen ist in den folgenden Bereichen und Prozessen weit verbreitet:

• Dünnschicht-Beschichtung: Herstellung von Metallschichten, Keramikschichten, Verbundschichten und dünnen Halbleiterschichten für die Photovoltaik- und Mikroelektronikindustrie.
• Synthese von Nanomaterialien: Synthese von Hochleistungs-Nanomaterialien wie Kohlenstoff-Nanoröhrchen, Graphen und Silizium-Nanodrähten.
• Lithium-Batterie-Materialien: PECVD-Beschichtungsverfahren für Batterieelektrodenmaterialien zur Verbesserung von Leistung und Stabilität.
• Keramiken und Verbundwerkstoffe: Abscheidung und thermische Behandlung von Keramik- und Verbundstoffschichten unter Hochtemperaturbedingungen.
• Forschungsanwendungen: Wird von Universitäten und Forschungseinrichtungen für die Entwicklung neuer Materialien und die Untersuchung von Plasmaprozessen verwendet.
• Plasmareinigung und Ätzen: Unterstützt die Oberflächenreinigung und das Ätzen von Mikrostrukturen, um die Anforderungen der Präzisionsbearbeitung zu erfüllen.

CVSIC PECVD-Rohrofen Merkmale

• Hohe Abscheidungsrate: RF-Plasma (13,56 MHz, 500W) ermöglicht eine Abscheidung von bis zu 10Å/s.
• Überlegene Gleichmäßigkeit: Multi-Point-RF- und Gaszufuhr erreichen eine Filmgleichmäßigkeit innerhalb des 8%.
• Hohe Konsistenz: Das Design gewährleistet weniger als 2% Abweichungen zwischen den Substraten.
• Stabiler Prozess: Die Ausrüstung garantiert einen kontinuierlichen PECVD-Betrieb.
• Präzise Temperaturregelung: 50-Segment-PID-Regelung, ±1℃ Genauigkeit, ±5℃ Gleichmäßigkeit.
• Hochvakuum: Endvakuum von 7×10-⁴ Pa; maximal -0,1 MPa.
• Sicherheit: Automatische Abschaltung bei Übertemperatur/Leckage; luftgekühlt auf <50°C Oberfläche.
• Langlebige Konstruktion: Der verstellbare Flansch verlängert die Lebensdauer des Rohrs und reduziert den Wartungsaufwand.

Anpassungsdienste

Vertrauen Sie CVSIC, wenn es um eine umfassende Anpassung geht, die sicherstellt, dass jeder Aspekt Ihrer PECVD-Prozessanforderungen fachmännisch abgestimmt ist, um maximale Ergebnisse zu erzielen:

• Ofenrohr-Anpassung: Rohrdurchmesser (Standard 100mm, anpassbar) und Heizzonenlänge (220-1650mm).
• Vakuum-System: Unterstützt Drehschieberpumpen, Diffusionspumpen oder Molekularpumpen für hohe Vakuumanforderungen (7×10-⁴ Pa).
• Gassteuerung: Anpassbare Dreikanal- oder Mehrkanal-Massendurchflussregler (0-100 sccm, 0-200 sccm oder benutzerdefinierte Bereiche).
• Steuerungssystem: Optionaler 7-Zoll-HD-Touchscreen, PC-Anschlusssoftware und Datenprotokollierungsfunktion.
• Zusätzliche Merkmale: Erweiterbare Module für Plasmareinigung, Ätzen oder andere Spezialverfahren.
• Weltweite Unterstützung: Installationsanleitung, Betriebsschulung und Wartungsdienste sorgen für einen langfristig stabilen Betrieb.

PECVD-Rohrofen Zubehör

Standard Zubehör

• Blockierröhrchen: 4 Stück
• Ofenrohr: 1 Stück
• Vakuumpumpe: 1 Einheit
• Vakuumversiegelungsflansche: 2 Sätze
• Vakuum-Messgerät: 1 Stück
• Gaszufuhr & Vakuumpumpensystem: 1 Satz
• RF Plasma Ausrüstung: 1 Satz

Optionales Zubehör

• Vakuum-System: Mechanische Drehschieberpumpe, Diffusionspumpe, Molekularpumpe
• Flansch-Zubehör: Schnellspannflansch, T-Flansch
• Steuerungssystem: 7-Zoll-HD-Touchscreen

CVSIC PECVD-Rohrofen Spezifikationen

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