Four tubulaire PECVD

Le four tubulaire CVSIC 1200℃ PECVD est conçu pour les procédés PECVD dans la recherche et l'industrie. Il dispose d'une chambre en fibre d'alumine de haute pureté, d'un chauffage par fil de résistance et d'une température maximale de 1200℃ (recommandée ≤1100℃). La source de plasma RF réduit la température de réaction et augmente les taux de dépôt. Des contrôleurs de débit massique triples et un système de mélange de gaz permettent un contrôle précis du débit de gaz pour la croissance du film.

Ce modèle offre un contrôle programmable de 50 segments avec une précision de ±1°C. Sa conception à double couche maintient les températures de surface en dessous de 50°C, et le système à faible vide assure la stabilité du processus. Une zone de préchauffage améliore la qualité et l'uniformité du film. Le four tubulaire PECVD CVSIC permet le dépôt, la synthèse de nanomatériaux et les procédés plasma pour la recherche ou la production à petite échelle.

Application du four tubulaire CVSIC PECVD

Le four tubulaire CVSIC PECVD est largement utilisé dans les domaines et processus suivants :

• Dépôt de couches minces : Préparation de films métalliques, de films céramiques, de films composites et de couches minces de semi-conducteurs pour les industries photovoltaïques et microélectroniques.
• Synthèse de nanomatériaux : Synthèse de nanomatériaux à haute performance tels que les nanotubes de carbone, le graphène et les nanofils de silicium.
• Matériaux pour batteries au lithium : Procédés de revêtement PECVD pour les matériaux d'électrodes de batteries afin d'améliorer les performances et la stabilité.
• Céramiques et composites : Dépôt et traitement thermique de films céramiques et composites dans des conditions de haute température.
• Applications de recherche : Utilisé par les universités et les instituts de recherche pour le développement de nouveaux matériaux et l'étude des procédés plasma.
• Nettoyage et gravure au plasma : permet de nettoyer les surfaces et de graver les microstructures pour répondre aux exigences de traitement de précision.

Caractéristiques du four tubulaire CVSIC PECVD

• Vitesse de dépôt élevée : Le plasma RF (13,56 MHz, 500 W) permet un dépôt jusqu'à 10Å/s.
• Uniformité supérieure : L'alimentation en gaz et en RF en plusieurs points permet d'obtenir une uniformité du film dans les 8%.
• Grande cohérence : La conception garantit une variation inférieure à 2% entre les substrats.
• Processus stable : L'équipement garantit des opérations PECVD continues.
• Contrôle précis de la température : contrôle PID à 50 segments, précision de ±1℃, uniformité de ±5℃.
• Vide poussé : vide ultime de 7×10-⁴ Pa ; max -0,1 MPa.
• Sécurité : Arrêt automatique en cas de surchauffe/fuite ; refroidissement par air à une température de surface inférieure à 50°C.
• Construction durable : La bride réglable prolonge la durée de vie du tube et réduit l'entretien.

Services de personnalisation

Faites confiance à CVSIC pour une personnalisation complète, garantissant que chaque aspect de vos exigences en matière de processus PECVD est adapté de manière experte pour obtenir des résultats optimaux :

• Personnalisation du tube du four : Diamètre du tube (100 mm par défaut, personnalisable) et longueur de la zone de chauffage (220-1650 mm).
• Système de vide : Prend en charge les pompes à palettes, les pompes à diffusion ou les pompes moléculaires pour répondre aux exigences de vide élevé (7×10-⁴ Pa).
• Contrôle des gaz : Régulateurs de débit massique personnalisables à trois ou plusieurs canaux (0-100 sccm, 0-200 sccm ou plages personnalisées).
• Système de contrôle : Écran tactile HD de 7 pouces en option, logiciel de connectivité PC et fonctionnalité d'enregistrement des données.
• Caractéristiques supplémentaires : Modules extensibles de nettoyage au plasma, de gravure ou d'autres processus spécialisés.
• Assistance mondiale : Les conseils d'installation, la formation opérationnelle et les services de maintenance garantissent un fonctionnement stable à long terme.

Accessoires pour fours tubulaires PECVD

Accessoires standard

• Tubes de blocage : 4 pièces
• Tube de four : 1 pièce
• Pompe à vide : 1 unité
• Brides d'étanchéité au vide : 2 jeux
• Jauge à vide : 1 pièce
• Système de distribution de gaz et de pompe à vide : 1 ensemble
• Équipement plasma RF : 1 ensemble

Accessoires en option

• Système de vide : Pompe mécanique à palettes, pompe à diffusion, pompe moléculaire
• Accessoires pour brides : Bride à serrage rapide, bride en té
• Système de commande : écran tactile HD de 7 pouces

Spécifications du four tubulaire CVSIC PECVD

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