Four tubulaire CVD

Le four tubulaire CVD de laboratoire sous vide CVSIC est conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur et le traitement thermique à haute température, au service des laboratoires universitaires, des instituts de recherche et des fabricants. Avec une chambre en fibre céramique de haute pureté, des fils ou tiges de résistance robustes et des tubes en quartz ou en alumine de haute pureté, il atteint des températures allant jusqu'à 1600℃ tout en maintenant un vide élevé et un contrôle précis du flux de gaz. Les brides en acier inoxydable garantissent un environnement pur et des résultats efficaces.

Doté d'une commande programmable à 50 segments, d'un refroidissement par air à deux couches et d'une précision de ±1°C, ce système permet de réaliser des dépôts et des traitements thermiques avancés. Il intègre le mélange de gaz et le contrôle du débit, ce qui le rend idéal pour la recherche de haute précision et les besoins de production en petits volumes.

Application du four tubulaire CVSIC CVD

Le four tubulaire à vide CVSIC offre de nouvelles possibilités pour une large gamme d'applications scientifiques, industrielles et manufacturières de pointe :

• Dépôt de couches minces : Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la préparation de films semi-conducteurs, de revêtements et de matériaux fonctionnels.
• Préparation des nanomatériaux : fabrication et traitement thermique de nanotubes de carbone, de fils de silicium et de matériaux en couches minces.
• Matériaux pour batteries au lithium : Procédés CVD et frittage à haute température pour les matériaux de cathode et d'anode.
• Céramique et métallurgie des poudres : Utilisé pour recouvrir et traiter les céramiques et les poudres métalliques à haute température.
• Recherche scientifique : Contribue à la création de nouveaux matériaux et soutient la recherche fondamentale dans les écoles et les laboratoires.
• Applications industrielles : Utilisé pour la production en petites séries de films et de matériaux précis avec des méthodes de dépôt en phase vapeur (CVD).

Caractéristiques du four tubulaire CVSIC CVD

• Large gamme de températures : Prend en charge 1200℃, 1400℃, 1600℃ (températures de fonctionnement 1100℃, 1300℃, 1600℃) pour répondre aux diverses exigences du processus CVD.
• Haute performance en matière de vide : Un vide ultime de 7×10-⁴ Pa et un vide maximal de -0,1 MPa maintiennent un environnement de dépôt pur.
• Contrôle précis des gaz : Le réservoir de mélange de gaz et le débitmètre permettent une régulation précise du N₂, de l'Ar et de plusieurs gaz.
• Options de tubes de four flexibles : Les tubes en quartz (1200℃) ou en alumine (1400℃, 1600℃) de haute pureté offrent une résistance aux températures élevées et à la corrosion.
• Contrôle intelligent de la température : le contrôle PID à 50 segments assure une précision de ±1℃ et une uniformité de ±5℃.
• Conception de sécurité : Coupure automatique de l'alimentation pour la sécurité ; le refroidissement par air à deux couches maintient la surface en dessous de 50℃.
• Construction durable : La conception de la bride réglable prolonge la durée de vie du tube et réduit les besoins d'entretien.
• Chauffage efficace : Chauffe jusqu'à 20℃/min, optimisant l'efficacité expérimentale.

Services de personnalisation

CVSIC vous fournit des solutions entièrement personnalisées pour garantir une adaptation parfaite à vos exigences uniques en matière de processus CVD, en veillant à ce que chaque spécification soit respectée avec précision :

• Personnalisation du tube du four : Choisissez des diamètres de tube de 40 à 120 mm et des longueurs de zone de chauffage de 300, 350, 400 ou 450 mm. Sélectionnez des matériaux en quartz ou en oxyde d'aluminium de haute pureté en fonction de vos besoins de recherche.
• Configuration de la température : Plages de température personnalisables de 1200℃, 1400℃ ou 1600℃ pour des exigences de processus spécifiques.
• Éléments chauffants : Les options comprennent le fil de résistance HRE contenant du molybdène, barres de carbure de siliciumou MoSi2 Barres chauffantes. Sélectionnez l'élément chauffant qui répond le mieux à vos exigences en matière de température et de processus.
• Système de vide et de gaz : Choisissez entre le vide poussé (7×10-⁴ Pa), les configurations de vide faible ou un système de contrôle multigaz comprenant des débitmètres pour des types de gaz spécifiques.
• Système de contrôle : Sélectionnez un écran tactile HD de 7 pouces, un logiciel de connectivité PC pour le fonctionnement à distance ou une fonctionnalité d'enregistrement des données pour répondre à vos préférences en matière de surveillance.
• Soutien mondial : Fournit des conseils d'installation, une formation opérationnelle et des services de maintenance pour assurer un fonctionnement stable à long terme.

CVSIC Laboratoire de vide CVD Tube Furnace Accessories

Accessoires standard

• Bouchons de tube : 4 pièces
• Tube de four : 1 pièce
• Pompe à vide : 1 unité
• Brides d'étanchéité au vide : 2 jeux
• Jauge à vide : 1 unité
• Réservoir de mélange de gaz : 1 unité
• Débitmètre : 1 unité

Accessoires en option

• Système de vide : Pompe à palettes, pompe à diffusion, pompe moléculaire
• Accessoires pour brides : Brides à serrage rapide, brides en té
• Système de commande : écran tactile HD de 7 pouces

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