Forno tubular CVD

O forno tubular CVSIC Vacuum Laboratory CVD foi construído para deposição química de vapor e tratamento térmico de alta temperatura, servindo laboratórios universitários, instituições de pesquisa e fabricantes. Com uma câmara de fibra cerâmica de alta pureza, fios ou hastes de resistência robustos e tubos de quartzo ou alumina de alta pureza, atinge temperaturas de até 1600 ℃, mantendo um alto vácuo e controle preciso do fluxo de gás. Os flanges de aço inoxidável garantem um ambiente puro e resultados eficientes.

Com um controlo programável de 50 segmentos, arrefecimento a ar de camada dupla e precisão de ±1°C, este sistema suporta deposição avançada e tratamento térmico. Integra mistura de gás e controlo de fluxo, tornando-o ideal para investigação de alta precisão e necessidades de produção de pequenos volumes.

Aplicação do forno tubular CVSIC CVD

Desbloqueie novas possibilidades com o forno tubular CVD de vácuo CVSIC para uma vasta gama de aplicações científicas, industriais e de fabrico avançadas:

• Deposição de películas finas: Deposição de vapor químico (CVD) para a preparação de películas de semicondutores, revestimentos e materiais funcionais.
• Preparação de nanomateriais:Fabricar e tratar termicamente nanotubos de carbono, fios de silício e materiais de camadas finas.
• Materiais para baterias de lítio: Processos CVD e sinterização a alta temperatura para materiais de cátodo e ânodo.
• Cerâmica e metalurgia do pó: Utilizado para cobrir e tratar cerâmicas e pós metálicos a altas temperaturas.
• Investigação científica: Ajuda a criar novos materiais e apoia a investigação básica em escolas e laboratórios.
• Aplicações industriais: Utilizado para a produção de pequenos lotes de películas e materiais precisos com métodos CVD.

Caraterísticas do forno tubular CVSIC CVD

• Ampla faixa de temperatura: Suporta 1200 ℃, 1400 ℃, 1600 ℃ (temperaturas operacionais 1100 ℃, 1300 ℃, 1600 ℃) para atender a diversos requisitos de processo CVD.
• Alto desempenho de vácuo: O vácuo final de 7×10-⁴ Pa e o vácuo máximo de -0,1 MPa mantêm um ambiente de deposição puro.
• Controlo preciso do gás: O tanque de mistura de gás e o medidor de fluxo fornecem regulação precisa de N₂, Ar e multi-gás.
• Opções flexíveis de tubo de forno: Os tubos de quartzo de alta pureza (1200 ℃) ou alumina (1400 ℃, 1600 ℃) oferecem resistência a altas temperaturas e resistência à corrosão.
• Controle inteligente de temperatura: o controle PID de 50 segmentos garante precisão de ± 1 ℃ e uniformidade de ± 5 ℃.
• Design de segurança: Corte automático de energia para segurança; o resfriamento a ar de camada dupla mantém a superfície abaixo de 50 ℃.
• Construção duradoura: O design da flange ajustável prolonga a vida útil do tubo e reduz as necessidades de manutenção.
• Aquecimento Eficiente: Aquece até 20℃/min, optimizando a eficiência experimental.

Serviços de personalização

A CVSIC fornece-lhe soluções totalmente personalizadas para garantir uma adaptação perfeita aos seus requisitos exclusivos do processo CVD, assegurando que todas as especificações são cumpridas com precisão:

• Personalização do tubo do forno: Selecione diâmetros de tubo de 40 mm a 120 mm e comprimentos de zona de aquecimento de 300 mm, 350 mm, 400 mm ou 450 mm. Selecione entre materiais de quartzo de alta pureza ou óxido de alumínio de acordo com os seus requisitos de investigação.
• Configuração de temperatura: Faixas de temperatura personalizáveis de 1200 ℃, 1400 ℃ ou 1600 ℃ para requisitos específicos do processo.
• Elementos de aquecimento: As opções incluem fio de resistência HRE com molibdénio, barras de carboneto de silício, ou Barras de aquecimento MoSi2. Selecione o elemento de aquecimento que melhor se adapta aos seus requisitos de temperatura e de processo.
• Sistema de vácuo e gás: Escolha entre configurações de alto vácuo (7×10-⁴ Pa), baixo vácuo ou um sistema de controlo multigás com medidores de fluxo para tipos de gás específicos.
• Sistema de controlo: Selecione um ecrã tátil HD de 7 polegadas, software de conetividade com PC para funcionamento remoto ou funcionalidade de registo de dados para se adequar às suas preferências de monitorização.
• Suporte global: Fornece orientação de instalação, formação operacional e serviços de manutenção para garantir um funcionamento estável a longo prazo.

Acessórios do forno tubular CVD para laboratório de vácuo CVSIC

Acessórios standard

• Tampões para tubos: 4 peças
• Tubo do forno: 1 unidade
• Bomba de vácuo: 1 unidade
• Flanges de vedação a vácuo: 2 conjuntos
• Medidor de vácuo: 1 unidade
• Tanque de mistura de gás: 1 unidade
• Medidor de caudal: 1 unidade

Acessórios opcionais

• Sistema de vácuo: Bomba de palhetas rotativas, bomba de difusão, bomba molecular
• Acessórios para flanges: Flanges de libertação rápida, Flanges em T
• Sistema de controlo: Ecrã tátil HD de 7 polegadas

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